集成电路布图设计
集成电路布图设计
集成电路布图设计，简称布图设计，是一种体现了集成电路中各种电子元件的配置方式的图形。集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置，或者为制造集成电路而准备的上述三维配置。集成电路的设计过程通常分为两个部分：布图设计和工艺。
所谓布图设计的侵权，是指侵犯了布图设计人的权利，依法应当承担的法律责任。包括侵犯布图设计人的复制权和商业利用权。布图设计权的保护期限为10年，自布图设计登记申请之日或在世界任何地方首次投入商业使用之日计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受到保护。
案例回放
源之峰公司与华半公司订立协议开发1360集成电路，矽威公司享有PT4115集成电路布图设计专有权，源之峰公司对矽威公司的PT4115芯片进行了技术上的反向剖析，获取其具体电参数、元器件结构、尺寸和内部构造等数据，形成1360集成电路的布图设计，提供给华半公司，获得10万元设计费。矽威公司了解情况后向法院提起诉讼。
法院经审理认为，源之峰公司委托制作的布图设计及其销售的集成电路含有的布图设计均与矽威公司享有专有权的涉案布图设计相同。因此，法院判决：源之峰公司立即停止侵犯矽威公司PT4115集成电路布图设计专有权的行为并赔偿原告经济损失共计236535.06元等。
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